|
首頁 > 客戶案例 >明美偏光顯微成像應(yīng)用于GEPS材料 |
明美偏光顯微成像應(yīng)用于GEPS材料
GEPS就是在聚苯乙烯高分子材料中引入層狀結(jié)構(gòu)材料-石墨,且石墨需控制在最優(yōu)添加量。明美根據(jù)客戶的需求,提供專業(yè)的售前樣品拍攝服務(wù),根據(jù)客戶的樣品制定偏光顯微鏡MP41搭配科研級(jí)顯微鏡相機(jī)MSX2-H,客戶對(duì)我們實(shí)拍的效果圖表示認(rèn)可,并成交了。


使用機(jī)型:明美偏光顯微鏡MP41。
MP41
添加日期:2017-07-31
|
 |
|